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光学滤光片常用的清洗手段

来源:  |  发布时间:2017-11-8 14:47:30  |  浏览次数:
       由于现在很多半导体器件的生产对清洁度的要求越来越高,因此不断的有复杂的新洗净系统和设备在投入使用中。比如在光学仪器、精密机械以及电子机械领域也更加的需要精密工业清洗。我觉得不管是什么产品,清洗是很重要的,既美观又干净。基底清洁是影响镀膜产品质量好坏的关键因素之一,它既能保障元件镀膜前表面高洁净度,降低薄膜内的杂质污染物。所以我们的基片在进入镀膜室前,不管镀层要求如何,都应该认真的清洗,以达到去油、去污和脱水的目的,这也是提高膜层牢固度的重要措施。
        滤光片镀膜工艺常用清洗方法
        在清洗行业中,依据使用的清洗剂种类,我们一般按照清洗工艺分为湿式清洗和干式清洗。对真空镀膜行业来说,根据镀膜基底表面所去除物的种类,对镀膜前基底的清洗方法一般分为物理清洗和化学清洗,物理清洗即去除基底表面物理附着物,如粉尘颗粒; 化学清洗是去除基底表面化学附着物,如油迹。而不同的基底在真空镀膜前的清洗方法也各有差异,光学滤光片镀膜前清洗主要包括如下几种。
         1、擦拭清洗
        擦拭清洗方法是兼有机械摩擦和化学作用的双重效果,使除污效果更为有效。滤光片等光学元件在转入镀膜加工工序前,其基底都经过研磨抛光,达到一定的光洁要求,光学元件表面残留有各类油污,存在粘附性强的附着物,同时还残留有部分研磨膏、抛光砂等颗粒物。为达到良好的清洗效果,满足滤光片的镀膜需求,滤光片基底首先应进行擦拭清洗,以清除基底表面油污及研磨膏、抛光砂等附着物。
        2、超声波清洗
       超声波清洗的主要作用机理是超声空化作用、超声空化二阶效应产生的微声流的洗刷作用,以及超声空化在固体和液体界面所产生的高速微射流的冲击作用,促进洗液的化学物理反应效果,从而除去污染物的一种有效的清洗方法,是一种高速、高质量、易实现自动化的清洗技术。
        3、汽相清洗方法
       蒸汽清洗通常是指有机溶剂蒸汽清洗,习惯上常称为蒸汽除油。蒸汽清洗主要是通过有机溶剂蒸发、液化冷凝到基底表面、溶解污物的过程,从而达到清洗基底表面高洁净度的一种清洗方法。
        4、离子束清洗
       滤光片镀膜前经过一系列的清洗过程之后,在基片放入真空室的过程中以及在真空室抽取真空的过程中,装入镀膜设备真空室以及进行蒸镀前,基片均有可能被二次污染,从而影响滤光片蒸镀效果和薄膜特性,通常采用离子束清洗技术,对基片进行的最后一道处理,以消除二次污染,保证基片在镀膜前的真正清洁。离子束清洗技术的清洁机理是: 吸附或黏附在基片上的污物在高能离子束的轰击下脱离基片; 或通过高热能的氧离子氧化污物分子,使它易于被离子碰撞而脱离基片。
        以上内容是小编给大家介绍的关于光学滤光片的清洗方法,相信大家看完都有所理解了。既然知道了怎么去清洗,当然选择一个好的滤光片厂家也是很重要的,您可以了解一下我们飞宇达光电滤光片的定制能力

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